|
تفاصيل المنتج:
|
| Name: | Silicon Wafer Cleaning | Application: | IT Industry |
|---|---|---|---|
| PH: | 12.0-14.0 | Free alkalinity(piont): | ≧13.5mg |
| name: | si wafer cleaning | model: | 1020 |
| تسليط الضوء: | منظفات شريحة السيليكون,التنظيف الكيميائي الصناعي |
||
صناعة تكنولوجيا المعلومات رقاقة السيليكون مع أداء إزالة الشحوم جيدة
تعتمد عملية تنظيف RCA على طريقة تنظيف تم تطويرها في RCA Corporation لإزالة البقايا العضوية من رقائق السيليكون. يتكون محلول التنظيف من 5 أجزاء من الماء ، جزء واحد 27٪ هيدروكسيد الأمونيوم وجزء 30٪ بيروكسيد الهيدروجين. يزيل الملوثات العضوية ويترك طبقة رقيقة من السيليكون المؤكسد على سطح الرقاقة.
ميزة تنظيف رقاقة السيليكون
1) منتجات مجموعة واحدة مع PPR مثالي (نسبة سعر الأداء)
2) أن تكون خالية من الكالسيوم والمغنيسيوم والمعادن والنحاس والرصاص والفوسفور ، وتلبية متطلبات بنفايات.
3) أداء جيد لإزالة الشحوم لتلبية متطلبات منطقة تكنولوجيا المعلومات عالية الدقة.
المعلمة التقنية لتنظيف رقاقة السيليكون
تصنيف مشروع | تنظيف رقاقة السيليكون JH-1020 | قواعد الامتحان |
| مظهر خارجي | عديم اللون إلى سائل مصفر | التصور |
| الوزن النوعي | 1.01-1.25 | مقياس الكثافة |
| الرقم الهيدروجيني | 12.0-14.0 | أداة PH |
| القلوية الحرة (piont) | .5 13.5 مجم | CYFC |
تعليمات تنظيف رقاقة السيليكون
1) ضع الماء النقي في خزان التنظيف حتى ثلاثة أرباع ، ثم ، أضف عامل بتركيز 3 ٪ -5 ٪ ، أضف الماء حتى مستوى العمل ، وأخيرًا ، قم بتسخين محلول الاستحمام حتى درجة حرارة العمل.
2) الحاجة إلى تغيير محلول الاستحمام تمامًا بعد إزالة الشحوم بكمية معينة من شريحة السيليكون.
3) تقليل الوقت المكشوف في الهواء لتجنب الأكسدة.
4) درجة حرارة العمل 50-65 درجة ، وقت التخلص: 2-5 دقائق.
اتصل شخص: kyjiang
الهاتف :: +8613915018025
